時間:2017-08-24 08:30
來源:重慶市環(huán)保局
按照GB/T16157、HJ/T373、HJ/T397的相關(guān)規(guī)定和采樣要求,確定采樣位置、采樣頻次和采樣時間,進行樣品采集。
6.3.1.1采樣管路連接。
如圖1管路連接。洗滌瓶和吸附劑用于排放廢氣的吸收處理。

系統(tǒng)漏氣檢查:關(guān)上采樣管出口三通閥,打開抽氣泵抽氣,使真空壓力表負壓上升到13kPa,關(guān)閉抽氣泵一側(cè)閥門,如壓力計壓力在1min內(nèi)下降不超過0.15kPa,則視為系統(tǒng)不漏氣。如發(fā)現(xiàn)漏氣,要重新檢查、安裝,再次檢漏,確認系統(tǒng)不漏氣后方可采樣。
當排放口排氣壓力為正壓或常壓時,可直接用聚四氟乙烯采樣管連接不銹鋼罐進行采樣,在采樣管前端加塞玻璃棉過濾頭。連接管路應(yīng)盡可能短,內(nèi)徑應(yīng)大于6mm。不銹鋼罐安裝流量控制器,根據(jù)排氣中VOCs濃度的高低,調(diào)節(jié)流量控制器來控制采樣時間,一般采集樣品20min~60min。
當排放口排氣壓力為負壓時,應(yīng)按照圖1所示不銹鋼罐采樣系統(tǒng)連接。在聚四氟乙烯采樣管后連接一個三通閥門,分別連接不銹鋼罐和抽氣泵。采樣前,開啟連接抽氣泵一側(cè)的閥門,以1L/min流量抽氣約5min,置換采樣系統(tǒng)的空氣。然后切換至不銹鋼罐的氣路,開啟閥門使氣體進入不銹鋼罐。連接管路應(yīng)盡可能短,內(nèi)徑應(yīng)大于6mm。不銹鋼罐安裝流量控制器,根據(jù)排氣中VOCs濃度的高低,調(diào)節(jié)流量控制器來控制采樣時間,一般采集樣品20min~60min。流量控制器采樣流量對應(yīng)的采樣時間見表1。

6.3.1.2同步測定并記錄排氣管道內(nèi)廢氣溫度、流量和含濕量等參數(shù)。
6.3.1.3由于質(zhì)控等特殊要求,需要采集平行樣品時,可將三通閥更換為四通閥,將負壓相同的兩個不銹鋼罐并聯(lián),同時開啟,同步采集。
6.3.2無組織采樣
按照HJ/T55的相關(guān)規(guī)定和采樣要求,確定采樣點位、采樣頻次和采樣時間,進行樣品采集。
6.3.2.1開啟不銹鋼罐控制閥門。當采集瞬時樣品時,只需開啟不銹鋼罐閥門,使無組織氣體被吸入不銹鋼罐內(nèi),達到壓力平衡后關(guān)閉不銹鋼罐。
當需要采集累積時段樣品時,不銹鋼罐安裝流量控制器,根據(jù)無組織中VOCs含量大小調(diào)整持續(xù)采樣時間。不同恒定流量對應(yīng)的采樣時間見表1。
6.3.2.2同步測定并記錄大氣壓力、風速風向、環(huán)境溫度等氣象參數(shù)。
6.4全程序空白采樣
將高純氮氣(4.5)注入預先清洗好并抽至真空的采樣罐(5.7)帶至采樣現(xiàn)場,與同批次采集樣品后的采樣罐一起送回實驗室分析。
6.5樣品保存
不銹鋼罐采樣后,立即將閥門擰緊密封。樣品在常溫下保存,采樣后盡快分析,14天內(nèi)分析完畢。
7分析
7.1儀器參考條件
7.1.1預濃縮儀進樣裝置條件
一級冷阱:捕集溫度:-150℃;解析溫度:10℃;閥溫:100℃;烘烤溫度:150℃;烘烤時間:5min;
二級冷阱:捕集溫度:-30℃;解析溫度:180℃;烘烤溫度:180℃;烘烤時間:2.5min;
三級聚焦:聚焦溫度:-160℃;解析時間:2.5min。
7.1.2氣相色譜儀參考條件
柱溫:50℃(5min)→5℃/min→150℃(2min)→15℃/min→200℃(1min);載氣流量:1.0ml/min;
進樣口溫度:140℃;
溶劑延遲時間:2min;
載氣流量:1.0ml/min;
分流比:10:1。
7.1.3質(zhì)譜儀參考條件
掃描方式:全掃描或選擇離子掃描,選擇離子掃描參數(shù)參考表2;掃描范圍:30aum~200aum;離子化能量:70eV。

7.2儀器性能檢查
在分析樣品前,需要檢查GC/MS儀器性能。將4-溴氟苯(BFB)(4.3)1μL(50ng)進樣,得到的BFB關(guān)鍵離子豐度必須符合表3中的標準。

7.3校準
7.3.1標準系列配制
將VOC標準氣體(4.1)的鋼瓶和高純氮氣(4.5)鋼瓶與氣體稀釋裝置(5.6)連接,設(shè)定稀釋倍數(shù),打開鋼瓶閥門調(diào)節(jié)兩種氣體的流速,待流速穩(wěn)定后取預先清洗好并抽至真空的采樣罐(5.7)連在氣體稀釋裝置(5.6)上,打開采樣罐閥門開始配氣。配制1.0mg/m3、2.0mg/m3、5.0mg/m3、10.0mg/m3、20.0mg/m3(可根據(jù)實際樣品情況調(diào)整)的標準系列。
7.3.2內(nèi)標使用氣體配制
內(nèi)標使用氣體濃度為5.0mg/m3。將內(nèi)標標準氣體(4.2)按7.3.1步驟配制而成。
7.3.2校準曲線繪制
通過濃縮儀自動進樣器(5.4)分別抽取1.0mg/m3、2.0mg/m3、5.0mg/m3、10.0mg/m3、20.0mg/m3標準系列氣體400ml,同時加入5.0mg/m3內(nèi)標使用氣體100ml,按照儀器參考條件,依次從低濃度到高濃度進行測定。根據(jù)目標化合物/內(nèi)標化合物質(zhì)量比和目標化合物/內(nèi)標化合物特征質(zhì)量離子峰面積比,用相對響應(yīng)因子(RRF)繪制校準曲線。按照公式(1)計算目標化合物的相對響應(yīng)因子(RRF)。

7.3.3標準色譜圖
目標化合物參考色譜圖見圖2。

7.3.4目標化合物出峰時間詳見附錄B,附表B-1。
編輯:張偉
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